1.

国際会議録

国際会議録
Liu, H. X. ; Schneider, T. P. ; Montgomery, J. ; Chen, Y. L. ; Buczkowski, A. ; Shimura, F. ; Nemanich, R. J. ; Maher, D. M. ; Korzec, D. ; Engemann, J.
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.231-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315
2.

国際会議録

国際会議録
Barnak, J. P. ; King, S. ; Montgomery, J. ; Ku, Ja-Hum ; Nemanich, R. J.
出版情報: Ultraclean semiconductor processing technology and surface chemical cleaning and passivation : Symposum held April 17-19, 1995, San Francisco, California, USA.  pp.357-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 386
3.

国際会議録

国際会議録
Barnak, J. P. ; Ying, H. ; Chen, Y. L. ; Montgomery, J. ; Nemanich, R. J.
出版情報: Ultraclean semiconductor processing technology and surface chemical cleaning and passivation : Symposum held April 17-19, 1995, San Francisco, California, USA.  pp.351-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 386