1.

国際会議録
国際会議録
1. Area measurements for simulation-based dispositioning of masks [5992-184]
Luk-Pat, G. ; Chen, J. -H. ; Morgan, R. ; Schneider, E.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59925C-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
2.

国際会議録
国際会議録
2. A simulation-based defect disposition flow for incoming mask quality assurance [5992-185]
Lee, D. ; Chu, B. ; Fang, T. Y. ; Shieh, W. B. ; Hu, S. ; Chen, J. -H. ; Morgan, R.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59925D-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992