1.

国際会議録
国際会議録
1. Mighty high-T lithography for 65-nm generation contacts
Conley, W. ; Montgomery, P.K. ; Lucas, K. ; Litt, L.C. ; Maltabes, J.G. ; Dieu, L. ; Hughes, G.P. ; Mellenthin, D.L. ; Socha, R.J. ; Fanucchi, E.L. ; Verhappen, A. ; Wampler, K.E. ; Yu, L. ; Schaefer, E. ; Cassel, S. ; Kuijten, J.P. ; Pijnenburg, W. ; Wiaux, V. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1210-1219,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
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2. ArF solutions for low-k1 back-end imaging
Wiaux, V. ; Montgomery, P.K. ; Vandenberghe, G. ; Monnoyer, P. ; Ronse, K.G. ; Conley, W. ; Litt, L.C. ; Lucas, K. ; Finders, J. ; Socha, R. ; Broeke, D.J.V.D.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.270-281,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
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3. High-NA ArF lithography for 70-nm technologies
Montgomery, P.K. ; Vandenberghe, G. ; Lucas, K.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1613-1624,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
4.

国際会議録
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4. Comparisons of 9% versus 6% transmission attenuated phase-shift mask for the 65-nm device mode
Montgomery, P.K. ; Lucas, K.D. ; Litt, L.C. ; Conley, W. ; Fanucchi, E. ; Van Wingerden, J. ; Vandenberghe, G. ; Wiaux, V. ; Taylor, D. ; Cangemi, M.J. ; Kasprowicz, B.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.814-825,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256