1.

国際会議録
国際会議録
1. Formation of Interfacial Voids in Aluminum by Oxidation and Dissolution Processes
Hebert, K.R. ; Gessmann, T. ; Lynn, K.G. ; Asoka-Kumar, P.
出版情報: Pits and Pores : formation, properties, and significance for advanced materials : proceedings of the International Symposium.  pp.469-479,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-25
2.

国際会議録
国際会議録
2. Formation of Interfacial Defects by Anodic Oxidation of Aluminum
Huang, R. ; Hebert, K.R. ; Chumblev, L.S. ; Gessmann, T. ; Lynn, K.G.
出版情報: Surface oxide films : proceedings of the international symposium.  pp.55-65,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-25
3.

国際会議録
国際会議録
3. The Use of Phosphoric Acid Immersion to Enhance the Susceptibility of Aluminum to Anodic Pitting Corrosion
Wu, H. ; Hebert, K. ; Gessmann, T. ; Lynn, K.G.
出版情報: Oxide Films : proceedings of the International Symposium.  pp.189-197,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-4
4.

国際会議録
国際会議録
4. Study of Positronium in Low-k Dielectric Films by Means of 2D-Angular Correlation Experiments at a High-Intensity Slow-Positron Beam
Gessmann, T. ; Petkov, M.P. ; Weber, M.H. ; Lynn, K.G. ; Rodbell, K.P. ; Asoka-Kumar, P. ; Stoeffl, W. ; Howell, R.H.
出版情報: Positron annihilation, ICPA-12 : Proceedings of the 12th International Conference on Positron Annihilation, August 6-12, 2000, München, Germany.  pp.585-587,  2001.  Zuerich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 363-365