1.

国際会議録
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1. a-Si:H THIN FILM TRANSISTORS AND LOGIC CIRCUITS FABRICATED IN AN INTEGRATED MULTICHAMBER SYSTEM
Kim, S. S. ; Wang, C. ; Parsons, G. N. ; Lucovsky, G.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1990 : symposium held April 17-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.373-378,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 192
2.

国際会議録
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2. ELECTRON MICROSCOPY STUDIES OF UNDOPED AND PHOSPHORUS DOPED Si:H AND Si,C:H FILMS
Chen, Y.L. ; Bentley, J. ; Wang, C. ; Lucovsky, G. ; Maher, D.M.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1993 : Symposium held April 13-16, San Francisco, California, U.S.A..  pp.711-716,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 297
3.

国際会議録
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3. RAMAN SCATTERING FROM MICROCRYSTALLINE FILMS: CONSIDERATIONS OF COMPOSITE STRUCTURES WITH DIFFERENT OPTICAL ABSORPTION PROPERTIES
Nemanich, R.J. ; Buehler, E.C. ; LeGrice, Y.M. ; Shroder, R.E. ; Parsons, G.N. ; Wang, C. ; Lucovsky, G. ; Boyce, J.B.
出版情報: Materials issues in microcrystalline semiconductors : symposium held November 29-December 1, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.265-270,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 164
4.

国際会議録
国際会議録
4. DEPOSITION OF AMORPHOUS AND MICROCRYSTALLINE Si,C ALLOY THIN FILMS BY A REMOTE PLASMA-ENHANCED CHEMICAL-VAPOR DEPOSITION PROCESS
Wang, C. ; Lucovsky, G. ; Nemanich, R.J.
出版情報: Amorphous silicon technology 1991 : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.751-756,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 219
5.

国際会議録
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5. BARRIER LIMITED TRANSPORT MECHANISMS IN DOPED μc-Si AND μc-Si, C
Lucovsky, G. ; Wang, C.
出版情報: Amorphous silicon technology 1991 : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.377-382,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 219
6.

国際会議録
国際会議録
6. STUDIES OF MOS HETEROJUNCTION DEVICES USING DOPED μc-Si AND a-Si
Lee, D.R. ; Bjorkman, C.H. ; Wang, C. ; Lucovsky, G.
出版情報: Amorphous silicon technology 1991 : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.395-400,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 219
7.

国際会議録
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7. DEPOSITION AND CHARACTERIZATION OF NEAR ‘INTRINSIC” μc-Si FILMS DEPOSITED BY REMOTE PLASMA-ENHANCED CHEMICAL-VAPOR DEPOSITION -RPECVD
Williams, M.J. ; Wang, C. ; Lucovsky, G.
出版情報: Amorphous silicon technology 1991 : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.388-394,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 219
8.

国際会議録
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8. *TRANSPORT AND MICROSTRUCTURE OF MICROCRYSTALLINE SILICON ALLOYS
Lucovsky, G. ; Wang, C. ; Williams, M.J. ; Chen, Y.L. ; Maher, D.M.
出版情報: Microcrystalline semiconductors : materials science & devices : symposium held November 30-December 4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.443-454,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 283
9.

国際会議録
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9. POLYHYRIDE BONDING GROUPS IN PECVD AMORPHOUS Si THIN FILMS
Davidson, B.N. ; Parsons, G.N. ; Wang, C. ; Lucovsky, G.
出版情報: Characterization of plasma-enhanced CVD processes : symposium held Novermber 27-28, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.173-180,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 165
10.

国際会議録
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10. THE EFFECT OF WATER VAPOR AND OXYGEN IN THE PROCESSING ENVIRONMENT ON THE PROPERTIES OF SPUTTERED a-Si:H FILMS
Wang, C. ; Parsons, G. N. ; Lucovsky, G.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1989 : symposium held April 25-28, 1989, San Diego, California, U.S.A..  pp.75-80,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 149