1.

国際会議録

国際会議録
Niimi, H. ; Koh, K. ; Lucovsky, G.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.623-630,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
2.

国際会議録

国際会議録
Koh, K. ; Niimi, H. ; Lucovsky, G.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.631-638,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
3.

国際会議録

国際会議録
Niimi, H. ; Koh, K. ; Lucovsky, G.
出版情報: Amorphous and crystalline insulating thin films--1996 : symposium held December 2-4, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.103-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 446
4.

国際会議録

国際会議録
Koh, K. ; Niimi, H. ; Lucovsky, G.
出版情報: Amorphous and crystalline insulating thin films--1996 : symposium held December 2-4, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.267-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 446
5.

国際会議録

国際会議録
Hattangady, S. V. ; Niimi, H. ; Gandhi, S. ; Lucovsky, G.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing IV : symposium held April 17-20, 1995, San Francisco, California, U.S.A..  pp.213-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 387
6.

国際会議録

国際会議録
Brillson, L. J. ; Young, A. P. ; Schafer, J. ; Niimi, H. ; Lucovsky, G.
出版情報: Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A..  pp.549-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 567
7.

国際会議録

国際会議録
Schafer, J. ; Young, A. P. ; Brillson, L. J. ; Niimi, H. ; Lucovsky, G.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing VII : symposium held April 13-15, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.151-,  1998.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 525
8.

国際会議録

国際会議録
Yang, H. ; Niimi, H. ; Wu, Y. ; Lucovsky, G.
出版情報: Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A..  pp.241-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 567
9.

国際会議録

国際会議録
Ma, Y. ; Hattangady, S. V. ; Yasuda, T. ; Niimi, H. ; Gandhi, S. ; Lucovsky, G.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing III : symposium held April 4-7, 1994, San Francisco, California, U.S.A..  pp.169-,  1994.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 342
10.

国際会議録

国際会議録
Lucovsky, G. ; Niimi, H. ; Koh, K. ; Lee, D.R. ; Jing, Z.
出版情報: The physics and chemistry of SiO[2] and the Si-SiO[2] interface-3, 1996 : proceedings of the Third International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO[2] and the Si-SiO[2] Interface.  pp.441-455,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-1