1.

国際会議録
国際会議録
1. Advanced hybrid mask process development [6283-23]
Lin, O. ; Chou, J. ; fu, K. K. ; Lee, B. ; Lu, R. ; Lu, J. ; Shi, -L. C.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62831S-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
2.

国際会議録
国際会議録
2. Study of chromeless mask quartz defect detection capability for 80-nm post structure [6349-136]
Lu, J. ; Wang, B. ; Chen, F. F. ; Wang, O. ; Chou, J. ; Lin, O. ; Cheng, J. ; Chen, E. ; Yu, P.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63493K-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349