1.

国際会議録
国際会議録
1. Electrical linewidth measurement for next-generation lithography
Kye,J. ; Levinson,H.J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XV.  pp.637-643,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4344
2.

国際会議録
国際会議録
2. Linewidth asymmetry study to predict aberration in lithographic lenses
Kye,J. ; Dusa,M.V. ; Levinson,H.J.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.1280-1289,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346