1.

国際会議録
国際会議録
1. Alignment system for ArF excimer-laser-based step-and-scan system
Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Sohn,Y.J. ; Kwon,J.H. ; Lee,K.H. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.958-970,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
2.

国際会議録
国際会議録
2. Design of illumination system for ArF excimer laser step-and-scanner
Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.997-1004,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
3.

国際会議録
国際会議録
3. Performance analysis of ArF excimer laser lithography optics
Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J.
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.948-958,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051
4.

国際会議録
国際会議録
4. Performance of small-field 193-nm exposure system
Kim,D.H. ; Lee,K.H. ; Kim,J.S. ; Choi,S.S. ; Oh,H.-K. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J.
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.922-932,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051