1.

国際会議録
国際会議録
1. Novel antireflective structure for metal layer patterning
Choi,S.-S. ; Cha,H.S. ; Kim,J.-S. ; Park,J.M. ; Kim,D.H. ; Lee,K.H. ; Ahn,J. ; Chung,H.B. ; Kim,B.W.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.336-346,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
2.

国際会議録
国際会議録
2. Design of illumination aperture for ArF exposure system with wide exposing latitude
Choi,S.-S. ; Cha,H.S. ; Kim,J.-S. ; Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Chung,H.B. ; Kim,D.Y.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.792-799,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
3.

国際会議録
国際会議録
3. Alignment system for ArF excimer-laser-based step-and-scan system
Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Sohn,Y.J. ; Kwon,J.H. ; Lee,K.H. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.958-970,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
4.

国際会議録
国際会議録
4. Design of illumination system for ArF excimer laser step-and-scanner
Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.997-1004,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
5.

国際会議録
国際会議録
5. Catadioptric Systems for Sub-Quarter Micron Lithography,
Lee,K.H. ; Chung,H.B. ; Kim,D.H. ; Yoo,H.J.
出版情報: Optics for science and new technology : 17th Congress of the International Commission for Optics, August 19-23, 1996, Hotel Riviera(Yusong), Taejon Korea.  Part1  pp.11-12,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2778
6.

国際会議録
国際会議録
6. Performance analysis of ArF excimer laser lithography optics
Lee,K.H. ; Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J.
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.948-958,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051
7.

国際会議録
国際会議録
7. Performance of small-field 193-nm exposure system
Kim,D.H. ; Lee,K.H. ; Kim,J.S. ; Choi,S.S. ; Oh,H.-K. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J.
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.922-932,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051
8.

国際会議録
国際会議録
8. Probe-beam scan-type autofocus system using position-sensing detector for subhalf micrometer lithography tools
Kim,D.H. ; Nam,B.-H. ; Lee,K.H. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.876-885,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726