1.

国際会議録
国際会議録
1. Improvement of pattern collapse in sub-100 nm nodes
Jung, M.-H. ; Lee, S.-H. ; Kim, H.-W. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.1298-1303,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039
2.

国際会議録
国際会議録
2. Comparison of ArF bilayer resists for sub-90 nm L/S fabrication
Hong, J. ; Kim, H.-W. ; Lee, S.-H. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  1  pp.249-256,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039