1.

国際会議録
国際会議録
1. High NA polarized light lithography for O.29kl process [6154-15]
Park, C. ; Lee, J. ; Yang, K. ; Tseng, S. ; Min, Y.-H ; Yang, H. ; Yim, D. ; Kim, J.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61540F-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
2.

国際会議録
国際会議録
2. Characterizing optical proximity effect difference among exposure tools [6152-103]
Hong, J. ; Lee, J. ; Kang, E. ; Yang, H. ; Yim, D. ; Kim, J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61522N-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152