1.

国際会議録
国際会議録
1. SILICON GERMANIUM HETEROBIPOLAR TRANSISTOR STRUCTURES WITH EXTREMELY HIGH BASE DOPING
Kasper, E. ; Kibbel, H. ; Konig, U.
出版情報: Silicon molecular beam epitaxy : symposium held April 29-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.451-456,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 220
2.

国際会議録
国際会議録
2. (9.3) 11:10 - 11:40 AM - Novel Concepts in Thin Film Solar Cells (Invited)
Presting, H. ; Konle, J. ; Palfinger, G. ; Kibbel, H. ; Konig, U. ; Uebele, P. ; Strobl, G. (Daimler Chrysler)
出版情報: SiGe: materials, processing, and devices : proceedings of the First international symposium.  pp.651-664,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-07
3.

国際会議録
国際会議録
3. Device Quality of Hydrogen Plasma Cleaning for Silicon Molecular Beam Epitaxy
Hansch, W. ; Eisele, I. ; Kibbel, H. ; Konig, U.
出版情報: Ultraclean semiconductor processing technology and surface chemical cleaning and passivation : Symposum held April 17-19, 1995, San Francisco, California, USA.  pp.345-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 386