1.

国際会議録
国際会議録
1. Full-level alternating PSM for sub-100nm DRAM gate patterning
Pforr, R. ; Ahrens, M. ; Dettmann, W. ; Hennig, M. ; Koehle, R. ; Ludwig, B. ; Morgana, N. ; Thiele, J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.232-243,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
国際会議録
2. Qualification of alternating PSM: defect inspection analysis in comparison to wafer printing results
Dettmann, W. ; Heumann, J.P. ; Hagner, T. ; Koehle, R. ; Rahn, S. ; Verbeek, M. ; Zarrabian, M. ; Weckesser, J. ; Hennig, M. ; Morgana, N.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.415-422,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
3.

国際会議録
国際会議録
3. Hard phase-shifting masks for the 65-nm node: a performance comparison
Pforr, R. ; Hennig, M. ; Koehle, R. ; Morgana, N. ; Thiele, J. ; Weckesser, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.212-221,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377