1.

国際会議録
国際会議録
1. Parameters affecting megasonic power transmittance in the megasonic cleaning process
Kim,Y.H. ; Park,J.H. ; Lee,K.H. ; Choi,S.W. ; Yoon,H.S. ; Sohn,J.M.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology V.  pp.455-462,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3412
2.

国際会議録
国際会議録
2. FIB repair of opaque defects for 64-Mb-DRAM-level binary masks
Lee,K.H. ; Cho,H.K. ; Park,J.H. ; Kim,Y.H. ; Yoon,H.S. ; Sohn,J.M.
出版情報: 16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.442-453,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2884
3.

国際会議録
国際会議録
3. Detectability and printability of programmed defects in the contact layer for 256-Mb-DRAM grade reticle
Kim,Y.H. ; Park,J.H. ; Lee,K.H. ; Cho,H.K. ; Yoon,H.S.
出版情報: 16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.548-561,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2884