1.

国際会議録
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1. Binary image encryption technique and decryption system using joint transform correlator
Park,S.-J. ; Seo,D.-H. ; Kim,J.-Y. ; Bae,J.-K. ; Kim,C.-S. ; Kim,S.-J.
出版情報: Photonic quantum technologies for aerospace applications III : 17-18 April 2001, Orlando, USA.  pp.164-171,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4386
2.

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2. Hybrid subband image coding scheme using DWT,DPCM,and ADPCM
Oh,K.-S. ; Kim,S.-J. ; Joo,C.-B.
出版情報: Visual information processing VII : 13-14 April 1998, Orlando, Florida.  pp.324-330,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3387
3.

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3. Simple constitutive model for phase transformations in ferroelectrics
Kim,S.-J.
出版情報: Smart structures and materials 1998 : mathematics and control in smart structures : 2-5 March 1998, San Diego, California.  pp.556-565,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3323
4.

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4. Novel single-layer photoresist containing cycloolefins for 193 nm
Park,J.-H. ; Seo,D.-C. ; Kim,K.-D. ; Park,S.-Y. ; Kim,S.-J. ; Lee,H. ; Jung,J.-C. ; Bok,C.-K. ; Baik,K.-H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.454-462,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
5.

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5. ArF photoresist system using alicyclic polymer
Park,J.-H. ; Kim,S.-J. ; Park,S.-Y. ; Lee,H. ; Jung,J.-C. ; Bok,C.-K. ; Baik,K.-H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIV : 10-12 March 1997, Santa Clara, California.  pp.485-491,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3049
6.

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6. Dynamic north-finding scheme based on a fiber optic gyroscope
Kim,S.-J. ; Lee,S.-S. ; Kwon,Y.-S. ; Bae,J.-C. ; Lee,S.-J
出版情報: Navigation and control technologies for unmanned systems II : 23 April 1997, Orlando, Florida.  pp.126-136,  1997.  Bellington, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3087
7.

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7. Improvement of aeroelastic stability of hingeless helicopter rotor blade by passive piezoelectric damping
Kim,S.-J. ; Han,C.-H. ; Yun,C.-Y.
出版情報: Smart structures and materials 1999 : passive damping and isolation : 1-2 March 1999, Newport Beach, California.  pp.131-141,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3672
8.

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8. TuD3:Crystallization behavior of sputter-deposited nitrogen-doped amorphous Ge2Sb2Te5 thin films
Seo,H. ; Jeong,T.-H. ; Park,J.-W. ; Yeon,C. ; Lee,D.-C. ; Kim,S.-J. ; Lim,H.-J. ; Kim,S.-Y.
出版情報: ISOM/ODS '99 : joint international symposium on Optical Memory and Optical Data Strage 1999, 11-15 July 1999 Sheraton Kauai Resort, Koloa, Howaii.  pp.116-118,  1999.  Bellingham, Washington.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3864
9.

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9. Optimization for full-chip process of 130-nm technology with 248-nm DUV lithography
Ham,Y.-M. ; Kim,S.-K. ; Kim,S.-J. ; Hur,C. ; Kim,Y.-S. ; Baik,K.-H. ; Kim,B.-H. ; Ahn,D.-J.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1053-1061,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
10.

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10. Large bandgap shift in InGaAs(P)/Inp multiquantum well structure obtained by impurity-free vacancy diffusion using SiO2 capping and its application to photodetectors
Si,S.-K. ; Kim,S.-J. ; Lee,J.-H. ; Yeo,D.H. ; Yoon,K.H.
出版情報: Photodetectors : materials and devices III : 28-30 January 1998, San Jose, California.  pp.88-95,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3287
11.

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11. Terpolymer of maleic anhydride and cycloolefin derivatives as an ArF photoresist
Kim,S.-J. ; Park,J.-H. ; Kim,J.-H. ; Kim,K.-D. ; Lee,H. ; Jung,J.-C. ; Bok,C.-K. ; Baik,K.-H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIV : 10-12 March 1997, Santa Clara, California.  pp.430-436,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3049
12.

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12. Detection method of an automobile number plate using optical rank order HMT
Lee,H.-W. ; Gong,J.-T. ; Kim,J.-C. ; Kim,S.-J.
出版情報: Optical pattern recognition VIII : 22-23 April, 1997, Orlando, Florida.  pp.108-118,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3073
13.

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13. Chemically amplified negative-tone deep-UV photoresist based on poly(alkoxy styrenes)containing acetal groups
Park,J.-H. ; Kim,S.-J. ; Kim,J.-H. ; Seo,D.-C. ; Kim,K.-D. ; Park,S.-Y. ; Lee,H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIII : 11-13 March 1996, San Clara, California.  pp.287-295,  1996.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2724
14.

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14. Finding the information of the ellipse from the optical Hough transform
Park,S.-G. ; Kim,S.-Y. ; Kim,J.-Y. ; Kim,S.-J.
出版情報: Optical pattern recognition XI : 26-27 April, 2000, Orlando, Florida.  pp.352-363,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4043
15.

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15. Optical security system based on computer-generated hologram
Kim,J.-Y. ; Park,S.-G. ; Kim,C.-S. ; Kim,J.-W. ; Kim,S.-Y. ; Kim,S.-J.
出版情報: Optical pattern recognition XI : 26-27 April, 2000, Orlando, Florida.  pp.298-305,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4043
16.

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16. Optical image encryption using interferometer
Kim,J.-Y. ; Kim,K.-J. ; Seo,D.-H. ; Kim,S.-W. ; Park,S.-J. ; Kim,S.-J.
出版情報: Optical pattern recognition XI : 26-27 April, 2000, Orlando, Florida.  pp.364-371,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4043
17.

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17. Materials design and lithographic performance of maleic anhydride/cycloolefin copolymer for ArF resist
Park,J.-H. ; Kim,J.-Y. ; Seo,D.-C. ; Park,S.-Y. ; Lee,H. ; Kim,S.-J. ; Jung,J.-C. ; Baik,K.-H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1163-1170,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3999
18.

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18. Postprocessing of interframe coded images based on convex projection and regularization
Joung,S.-C. ; Kim,S.-J. ; Paik,J.-K.
出版情報: Image and video communications and processing 2000 : 25-28 January 2000, San Jose, California.  pp.396-404,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3974
19.

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19. Design of piezoelectric sensors and actuators using positioning,sizing,and electrode shading
Ryou,J.-K. ; Park,K.-Y. ; Kim,S.-J.
出版情報: Smart structures and materials 1997 : Mathematics and control in smart structures : 3-6 March 1997, San Diego, California.  pp.747-753,  1997.  Bellingham.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3039
20.

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20. Scene change detection for video retrieval on MPEG streams
Kang,E.-K. ; Kim,S.-J. ; Jahng,S.-G. ; Song,H.-K. ; Choi,J.-S.
出版情報: Visual Communications and Image Processing 2000.  Part2  pp.977-984,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4067
21.

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21. Feasibility study on the ArF attenuated phase-shift mask for 100-nm node lithography
Koo,S.-S. ; Kim,S.-J. ; Paek,S.-W. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.770-777,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
22.

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22. Design of a full PACS with experiences of mini-PACS in Yonsei University Medical Center
Kim,H.-J. ; Huh,J.-M. ; Kim,N.-H. ; Kim,K.-D. ; Kim,M.-J. ; Kim,S.-J. ; Yoo,H.-S.
出版情報: Medical Imaging 2000: PACS Design and Evaluation: Engineering and Clinical Issues.  pp.312-320,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3980
23.

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23. Sub-120-nm technology compatibility of attenuated phase-shift mask in KrF and ArF lithography
Ham,Y.-M. ; Kim,S.-M. ; Kim,S.-J. ; Bae,S.-M. ; Kim,Y.-D. ; Baik,K.-H.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.359-371,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
24.

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24. Implementation of a holographic optical memory system using a new input and angular multiplexing method
Kim,C.-S. ; Lee,S.-H. ; Kim,S.-W. ; Kim,J.-Y. ; Park,S.-J. ; Kim,S.-J.
出版情報: Optoelectronic Materials and Devices.  pp.435-443,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3419
25.

国際会議録
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25. Optical morphological SDF filter for multiple-object recognition
Kim,J.-C. ; Kim,J.-W. ; Lee,H.-W. ; Doh,Y.-H. ; Kim,S.-J.
出版情報: Optical Pattern Recognition IX.  pp.152-158,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3386
26.

国際会議録
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26. Quantitative analysis of mask error effect on wafer CD variation in ArF lithography
Kim,S.-J. ; Koo,S.-S. ; Kim,S.-M. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.101-107,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409