1.

国際会議録
国際会議録
1. Optimization for full-chip process of 130-nm technology with 248-nm DUV lithography
Ham,Y.-M. ; Kim,S.-K. ; Kim,S.-J. ; Hur,C. ; Kim,Y.-S. ; Baik,K.-H. ; Kim,B.-H. ; Ahn,D.-J.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1053-1061,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
2.

国際会議録
国際会議録
2. Feasibility study on the ArF attenuated phase-shift mask for 100-nm node lithography
Koo,S.-S. ; Kim,S.-J. ; Paek,S.-W. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.770-777,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
3.

国際会議録
国際会議録
3. Sub-120-nm technology compatibility of attenuated phase-shift mask in KrF and ArF lithography
Ham,Y.-M. ; Kim,S.-M. ; Kim,S.-J. ; Bae,S.-M. ; Kim,Y.-D. ; Baik,K.-H.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.359-371,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
4.

国際会議録
国際会議録
4. Quantitative analysis of mask error effect on wafer CD variation in ArF lithography
Kim,S.-J. ; Koo,S.-S. ; Kim,S.-M. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.101-107,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409