1.

国際会議録
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1. Toward efficient unidirectional photonic crystal light emitters (Best Student Paper Award) [6352-42]
Kim, S.-H. ; Kim, S.-K. ; Lee, Y.-H.
出版情報: Optoelectronic materials and devices : 5-7 September, 2006, Gwangju, South Korea.  pp.635213-635213,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6352
2.

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2. Microphotonics: physics, technology, and an outlook toward the 21st Century (Invited Paper)
Lee, E.-H. ; Lee, S.-G. ; O, B.-H. ; Kim, S.-K.
出版情報: APOC 2001: Asia-Pacific Optical and Wireless Communications : Optoelectronics, Materials, and Dvices for Communications : 13-15 November 2001, Beijing, Chaina.  pp.263-272,  2001.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4580
3.

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3. Highly Reflective and Low Resistance Indium Oxide/Ag Ohmic Contacts to p-GaN for Flip-Chip Light Emitting Diodes
Song, J.-O. ; Kim, S.-K. ; Leem, D.-S. ; Kwak, J.S. ; Park, Y. ; Seen, T.-Y.
出版情報: State-of-the-art program on compound semiconductors XLI and nitride and wide bandgap semiconductors for sensors, photonics, and electronics V : proceedings of the international symposia.  pp.236-244,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-06
4.

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4. Cycloolefin copolymer containing hindered hydroxyl group for 1 93nm photoresist
Kim, S.-K. ; An, I. ; Oh, H.-K. ; Lee, S. M. ; Bok, C. K. ; Moon, S. C.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.592-602,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
5.

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5. Nanomolecular resists with adamantane core for 193-nm lithography
Kim, S.-K. ; An, I. ; Oh, H.-K. ; Lee, S. M. ; Bok, C. K. ; Moon, S. C.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.603-610,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
6.

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6. User-preferred color temperature conversion for video on TV or PC
Park, D.-S. ; Kim, S.-K. ; Kim, C.-Y. ; Choi, W.-H. ; Lee, S.-D. ; Seo, Y.-S.
出版情報: Color imaging VIII : processing, hardcopy, and applications : 21-24 January 2003, Santa Clara, California, USA.  pp.285-293,  2003.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5008
7.

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7. Probabilistic microcell prodiction model
Kim, S.-K.
出版情報: Digital wireless communications IV : 1-2 April 2002, Orlando, USA.  pp.34-41,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4740
8.

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8. Micro/nano-scale integrated photonic devices and circuits: issues and challenges (Invited Paper)
Lee, E.-H. ; Lee, S.-G. ; O, B.H. ; Park, S.-G. ; Kim, S.-K.
出版情報: Materials and devices for optical and wireless communications : APOC 2002 : Asia-Pacific Optical and Wireless Communications : 15-18 October, 2002, Shanghai, China.  pp.170-182,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4905
9.

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9. Simulation benchmarking for the whole resist process
Kim, S.-K. ; Lee, J.-E. ; Park, S.-W. ; Yoo, J.-Y. ; Oh, H.-
出版情報: Data analysis and modeling for process control : 26-27 February 2004, Santa Clara, California, USA.  pp.58-64,  2004.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5378
10.

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10. Implementing chemically amplified resist to 10kV raster e-beam process in photomask manufacturing [5853-19]
Kim, S.-K. ; Kim, B.-G. ; Moon, S.-Y. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.425-431,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
11.

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11. Sensitivity of rinse, dry, and etch parameters
Kim, S.-K.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.112-118,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
12.

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12. Lowering spatial frequency by using two confocal lenses in digital holography
Kim, S.-K. ; Choi, H.-H. ; Son, J.-Y.
出版情報: Practical Holography XVII and Holographic Materials IX.  pp.217-223,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5005
13.

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13. Pulsed-laser electroholographic system using the interference fringe image of the CCD
Choi, H.-H. ; Kim, S.-K. ; Son, J.-Y. ; Wu, J.W.
出版情報: Practical Holography XVII and Holographic Materials IX.  pp.366-374,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5005
14.

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14. Enhanced networked server management with random remote backups
Kim, S.-K.
出版情報: Performance and Control of Next-Generation Communications Networks.  pp.106-114,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5244
15.

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15. Sub-100-nm DRAM cell patterning results and relation with lens aberration at 248-nm lithography era
You, T.-J. ; Kim, H.S. ; Kim, J.-S. ; Kim, S.-K. ; Kim, Y.-D. ; Youn, H.S. ; Kong, K.-K.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1327-1334,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
16.

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16. Printing 95-nm DRAM full chip patterns in KrF lithography
Kim, S.-K. ; Kim, J.-S. ; Yoo, T.-J. ; Kong, K.-K. ; Yun, H.-S. ; Kim, Y.-D. ; Kim, H.-R. ; Kim, Y.-S. ; Kim, H.S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1321-1326,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
17.

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17. Proximity effects for rinse, dry, and etch parameters
Kim, S.-K. ; Oh, H.-K. ; Kim, H.S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.281-286,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
18.

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18. Analysis of total CD uniformity at sub-100-nm DRAM patterning by using KrF lithography
Kim, Y.-S. ; You, T.J. ; Kim, J.-S. ; Kim, S.-K. ; Kong, K.-K. ; Kim, Y.-D. ; Kim, H.S.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVII.  2  pp.1107-1113,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5038
19.

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19. Cell damage during femtosecond optical trapping
Im, K.-B. ; Han, S. ; Park, H. ; Jin, D. ; Kim, S.-K. ; Kim, B.-M.
出版情報: Imaging, Manipulation, and Analysis of Biomolecules and Cells: Fundamentals and Applications III.  pp.274-280,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5699
20.

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20. 0.33-k1 ArF lithography for 100-nm DRAM
Bok, C.K. ; Kim, S.-K. ; Kim, H.-B. ; Oh, J.-S. ; Ahn, C.-N. ; Shin, K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.810-821,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
21.

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21. Resist distribution effect of spin coating
Kim, S.-K. ; Yoo, J.-Y. ; Oh, H.-K.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.785-789,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
22.

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22. Printing 100-nm and sub-100-nm DRAM full-chip patterns with crosspole illumination in 0.63-NA ArF lithography
Kim, S.-K. ; Bok, C.-K. ; Shin, K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1504-1512,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
23.

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23. Recent improvement of pulsed laser electro-holographic system
Choi, H. ; Shestak, S. A. ; Kim, S.-K. ; Son, J.-Y. ; Wu, J. W.
出版情報: Practical Holography XVI and Holographic Materials VIII.  pp.76-82,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4659
24.

国際会議録
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24. New image segmentation method using mode finding, multi-link clustering, and region graph analysis
Kim, S.-K. ; Lee, S.-D. ; Kim, C.-Y. ; Seo, Y.-S. ; Nikolayev, D.
出版情報: Vision Geometry XII.  pp.138-145,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5300
25.

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25. Image browsing with perceptual classification of correlated color temperature
Kim, S.-K. ; Park, D.-S. ; Kim, C.-Y. ; Seo, Y.-S.
出版情報: Storage and Retrieval Methods and Applications for Multimedia 2004.  pp.125-132,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5307
26.

国際会議録
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26. Exposure simulation of electron beam microcolumn lithography
Kim, S.-K. ; Oh, H.-K.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.1100-1104,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374
27.

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27. Novel configurations and approaches for polymer electro-optic devices
Fetterman, H.R. ; Kim, S.-K. ; Geary, K. ; Poberezhskiy, I. ; Bortnik, B. ; Yuan, W. ; Hung, Y.-C. ; Seo, B.-J. ; Steier, W.H.
出版情報: Organic Photonic Materials and Devices VI.  pp.16-27,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5351
28.

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28. HMD-type multifocus 3D display system
Kim, S.-K. ; Son, J.-Y. ; Honda, T.
出版情報: Stereoscopic Displays and Virtual Reality Systems XI.  pp.347-353,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5291