1.

国際会議録
国際会議録
1. Cycloolefin copolymer containing hindered hydroxyl group for 1 93nm photoresist
Kim, S.-K. ; An, I. ; Oh, H.-K. ; Lee, S. M. ; Bok, C. K. ; Moon, S. C.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.592-602,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
2.

国際会議録
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2. Nanomolecular resists with adamantane core for 193-nm lithography
Kim, S.-K. ; An, I. ; Oh, H.-K. ; Lee, S. M. ; Bok, C. K. ; Moon, S. C.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.603-610,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
3.

国際会議録
国際会議録
3. Proximity effects for rinse, dry, and etch parameters
Kim, S.-K. ; Oh, H.-K. ; Kim, H.S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.281-286,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
4.

国際会議録
国際会議録
4. Resist distribution effect of spin coating
Kim, S.-K. ; Yoo, J.-Y. ; Oh, H.-K.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.785-789,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
5.

国際会議録
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5. Exposure simulation of electron beam microcolumn lithography
Kim, S.-K. ; Oh, H.-K.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.1100-1104,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374