1.

国際会議録
国際会議録
1. EVALUATION OF MEGASONIC CLEANING SYSTEMS FOR PARTICLE REMOVAL EFFICIENCY AND DAMAGING
Vereecke, G. ; Holsteyns, F. ; Veltens, J. ; Lux, M. ; Amauts, S. ; Kenis, K. ; Vos, R. ; Mertens, P. ; Heyns, M.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.145-152,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
2.

国際会議録
国際会議録
2. EVALUATION OF Si SURFACE CONDITIONS BY THE USE OF A SURFACE PHOTOVOLTAGE TECHNIQUE
Trauwaert, M.-A. ; Kenis, K. ; Caymax, M. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M. ; Vanhellemont, J. ; Graf, D. ; Wagner, P.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.455-462,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
3.

国際会議録
国際会議録
3. Effect of Metal Contamination and Improved Cleaning Strategies
Mertens, P.W. ; Bearda, T. ; Lowewenstein, L.M. ; Martin, A.R. ; Hub, W. ; Kolbesen, B.O. ; Teerlink, I. ; Vos, R. ; Baeyens, M. ; Gendt, S.De ; Kenis, K. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Defects in Silicon.  pp.401-413,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-1
4.

国際会議録
国際会議録
4. Silicon Surface Metal Contamination Measurements Using Grazing-Emission XRF Spectrometry
Gendt, S. de ; Kenis, K. ; Baeyens, M. ; Mertens, P. W. ; Heyns, M. M. ; Wiener, G. ; Kidd, S. J. ; Knotter, D. M. ; Bokx, P. K. de
出版情報: Science and technology of semiconductor surface preparation : symposium held April 1-3, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.397-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 477
5.

国際会議録
国際会議録
5. Critical Processes for Ultrathin Gate Oxide Integrity
Depas, M. ; Heyns, M.M. ; Nigam, T. ; Kenis, K. ; Sprey, H. ; Wilhelm, R. ; Crossley, A. ; Sofield, C.J. ; Graef, D.
出版情報: The physics and chemistry of SiO[2] and the Si-SiO[2] interface-3, 1996 : proceedings of the Third International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO[2] and the Si-SiO[2] Interface.  pp.352-366,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-1
6.

国際会議録
国際会議録
6. SUB 1OOnm PARTICLE REMOVAL WITH DEIONIZED WATER AND A MEGASONIC FREQUENCY OF 835kHz
Lauerhaas, J. ; Wu, Y. ; Xu, K. ; Vereecke, G. ; Vos, R. ; Kenis, K. ; Mertens, P. ; Nicolosi, T. ; Heyns, M.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.147-155,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26
7.

国際会議録
国際会議録
7. On the Nature of Grown-In Defects in Silicon: Dependence on Pulling Conditions and Evolution During Thermal Treatments
Vanhellemont, J. ; Kissinger, G. ; Senkader, S. ; Graef, D. ; Kenis, K. ; Depas, M. ; Lambert, U. ; Wagner, P.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on High Purity Silicon.  pp.226-237,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-13