1.

国際会議録
国際会議録
1. Resist heating dependence on subfield scheduling in 50-kV electron beam maskmaking
Babin, S.V. ; Kahng, A.B. ; Mandoiu, I. ; Muddu, S.V.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.718-726,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
2.

国際会議録
国際会議録
2. Subfield scheduling for throughput maximization in electron-beam photomask fabrication
Babin, S.V. ; Kahng, A.B. ; Mandoiu, I.I. ; Muddu, S.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  2  pp.934-942,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037