1.

国際会議録
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1. Model-based OPC for first-generation 193-nm lithography
Lucas,K.D. ; Word,J.C. ; Vandenberghe,G.N. ; Verhaegen,S. ; Jonckheere,R.M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.119-130,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
2.

国際会議録
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2. CD control for two-dimensional features in future technology nodes
Verhaegen,S. ; Gordon,R.L. ; Jonckheere,R.M. ; McCallum,M. ; Ronse,K.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.368-378,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
3.

国際会議録
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3. Reticle quality needs for advanced 193-nm lithography
Jonckheere,R.M. ; Vandenberghe,G.N. ; Wiaux,V. ; Verhaegen,S. ; Ronse,K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.108-117,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
4.

国際会議録
国際会議録
4. (Sub-) 100-nm gate patterning using 248-nm alternating PSM
Vandenberghe,G.N. ; Jaenen,P. ; Jonckheere,R.M. ; Ronse,K. ; Toublan,O.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.61-69,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
5.

国際会議録
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5. 2001 update on the SEMI Standards Mask Qualification Terminology Task Force
Jonckheere,R.M.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.264-271,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562