1.

国際会議録
国際会議録
1. OPC aware mask and wafer metrology
Maurer, W. ; Wiaux, V. ; Jonckheere, R.M. ; Philipsen, V. ; Hoffmann, T. ; Verhaegen, S. ; Ronse, K.G. ; England, J.G. ; Howard, W.B.
出版情報: 18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.175-181,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4764
2.

国際会議録
国際会議録
2. Analysis of the impact of reticle CD variations on the available process windows for a 100-nm CMOS process
Verhaegen, S. ; Vandenberghe, G. ; Jonckheere, R.M. ; Ronse, K.G.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.197-208,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889