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検索結果:
2
件
1.
国際会議録
国際会議録
1.
Dry etching of Cr layer and its loading effect
Kwon,H.-J. ; Min,D.-S. ; Jang,P.-J. ; Chang,B.-S. ; Choi,B.-Y. ; Park,K.-H. ; Jeong,S.-H.
出版情報:
Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII
. pp.382-389, 2001. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4409
2.
国際会議録
国際会議録
2.
Loading effect parameters of dry etcher system and their analysis in mask-to-mask loading and within-mask loading
Kwon,H.-J. ; Min,D.-S. ; Jang,P.-J. ; Chang,B.-S. ; Choi,B.-Y. ; Jeong,S.-H.
出版情報:
21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology
. 4562 pp.79-87, 2001. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4562
しぼり込み条件:
著者名: Jang,P.-J.
著者名: Chang,B.-S.
言語
英語
(2)
発行年
2000-2009
(2)
資料種別
国際会議録
(2)
著者名
Choi,B.-Y.
(2)
Jeong,S.-H.
(2)
Kwon,H.-J.
(2)
Min,D.-S.
(2)
Park,K.-H.
(1)
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