1.

国際会議録
国際会議録
1. Chemical Mechanical Polishing of Epitaxial Germanium on SiO2-patterned Si(001) Substrates
J.M. Hydrick ; J. Park ; J. Bai ; C. Major ; M. Curtin
出版情報: SiGe, Ge, and Related Compounds 3: Materials, Processing, and Devices.  pp.237-248,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(10)
2.

国際会議録
国際会議録
2. The Geometry Effect of A Counter-Doped Lateral Body Terminal on Poly-Si TFTs
S. Han ; I. Ji ; J. Park ; S. Choi ; J. Yoo
出版情報: Thin Film Transistor Technology 8.  pp.137-142,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(8)
3.

国際会議録
国際会議録
3. Fabrication and Characterization of Organic Light-Emitting Diodes using Transparent Single-Crystal-Silicon Membrane
S. Lee ; D. Kim ; H. Yang ; G. Lee ; J. Park
出版情報: Nanotechnology (General) - 213th ECS Meeting.  pp.13-17,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 13(18)
4.

国際会議録
国際会議録
4. Effect of Particle Deposition and Wet/Dry Cleaning Methods on Particle Removal Efficiency
T. Kim ; S. Hu ; A.A. Busnaina ; J. Park
出版情報: Cleaning and surface conditioning technology in semiconductor device manufacturing 10.  pp.361-367,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(2)
5.

国際会議録
国際会議録
5. Removal of Organic Wax and Particles on Silicon after Batch type Polishing by Ozonated DI Water
J. Yi ; S. Lee ; T. Kim ; J. Park ; G. Lee
出版情報: Cleaning and surface conditioning technology in semiconductor device manufacturing 10.  pp.79-84,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(2)
6.

国際会議録
国際会議録
6. Surface Preparation in CMP Process; Post CMP Cleaning and Defects
J. Park ; T. Kim
出版情報: Cleaning and surface conditioning technology in semiconductor device manufacturing 10.  pp.419-430,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(2)
7.

国際会議録
国際会議録
7. Quantitative Measurement of Pattern Collapse and Particle Removal Force
T. Kim ; K.L. Wostyn ; P. Mertens ; A.A. Busnaina ; J. Park
出版情報: Cleaning and surface conditioning technology in semiconductor device manufacturing 10.  pp.123-129,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(2)
8.

国際会議録
国際会議録
8. Post W CMP Cleaning Without HF Cleans
Y. Kang ; C. Yang ; T. Kwon ; J. Park ; J. Jo
出版情報: Cleaning and surface conditioning technology in semiconductor device manufacturing 10.  pp.441-445,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(2)
9.

国際会議録
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9. Effect of Poly Silicon Wettability on Polymeric Residue Contamination
Y. Kang ; J. Park ; Y. Hong ; S. Han ; S. Yun
出版情報: Cleaning and surface conditioning technology in semiconductor device manufacturing 10.  pp.455-461,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(2)
10.

国際会議録
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10. Application of Lattice Boltzmann Method to the Simulation of Multiphase Flow in the Inhomogeneous Porous Electrode of a PEM Fuel Cell
J. Park ; X. Li
出版情報: Fuel Cell Seminar 2007.  pp.81-92,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 12(1)