1.

国際会議録
国際会議録
1. A Direct Electro-reduction of Silver Compounds: Application to the Preparation of Fine Silver Powder
M. Kim ; J. Park ; S. Kim ; H. Yoon ; J. Lee
出版情報: Industrial and Environmental Electrochemistry.  pp.13-21,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(18)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Novel Non-Oxidative Aqueous Cleaning Solutions for Tungsten Layers
J. Park ; S. Kim ; D. Lee ; P. Jun ; H. Yi
出版情報: Dielectrics for nanosystems 3: materials science, processing, reliability, and manufacturing.  pp.331-340,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 13(2)
3.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
3. Test and Performance Evaluation of Small Liquid-Monopropellant Rocket Engines
J. Kim ; J. Park ; S. Kim ; K. Jang
出版情報: AIAA meeting papers on disc.  2006.  Reston, Va.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA/ASME/SAE/ASEE Joint Propulsion Conference and Exhibit
シリーズ巻号: 2006
4.

国際会議録
国際会議録
4. Issues and challenges of double patterning lithography in DRAM
S. Kim ; S. Koo ; J. Choi ; Y. Hwang ; J. Park ; E. Kang ; C. Lim ; S. Moon ; J. Kim
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
5.

国際会議録
国際会議録
5. OPC in memory-device patterns using boundary layer model for 3-dimensional mask topographic effect
Y. Kim ; I. Kim ; J. Park ; S. Kim ; S. Suh ; Y. Cheon ; S. Lee ; J. Lee ; C. Kang ; J. Moon ; J. Cobb ; S. Lee
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
6.

国際会議録
国際会議録
6. Application of nanoimprint lithography to nano-optics: wire grid polarizer and photonic crystal LED
K. Lee ; S. Kim ; J. Park ; J. Kim ; S. Park
出版情報: Micromachining technology for micro-optics and nano-optics V and microfabrication process technology XII : 22-24 January 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6462
7.

国際会議録
国際会議録
7. Properties of EUVL masks as a function of capping layer and absorber stack structures
H. Seo ; J. Park ; S. Lee ; H. Kim ; S. Kim ; H. Cho
出版情報: Emerging lithographic technologies XI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6517
8.

国際会議録
国際会議録
8. The effect of localized mask density variations on image quality in EUV lithography
J. Park ; H. Seo ; S. Kim ; H. Cho ; J. Moon
出版情報: Emerging lithographic technologies XI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6517