1.

国際会議録
国際会議録
1. Enhanced hole shape of flash devices in ArF lithography by eliptical mask bias technique
Y. Jeon ; S. Jun ; J. Kang ; S. Lee ; J. Kim ; K. Kim
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
国際会議録
2. Methodology to set up accurate OPC model using optical CD metrology and atomic force microscopy
Y. Shim ; J. Kang ; S. Lee ; J. Kim ; K. Kim
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
3.

国際会議録
国際会議録
3. Application of enhanced dynamic fragmentation to minimize false error from post OPC verification
J. Kang ; S. uk Lee ; J. Kim ; K. Kim
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration : 28 February-2 March 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521
4.

国際会議録
国際会議録
4. Spatial optical modulator (SOM): high-density diffractive laser projection display
S. Yun ; J. Song ; I. Yeo ; Y. Choi ; V. Yurlov ; S. An ; H. Park ; H. Yang ; Y. Lee ; K. Han ; I. Shyshkin ; A. Lapchuk ; K. Oh ; S. Ryu ; J. Jang ; C. Park ; C. Kim ; S. Kim ; E. Kim ; K. Woo ; J. Yang ; J. Kim ; S. Byun ; S. Lee ; O. Lim ; J. Cheong ; Y. Hwang ; G. Byun ; J. Kyoung ; S. Yoon ; J. Lee ; T. Lee ; S. Hong ; Y. Hong ; D. Park ; J. Kang ; W. Shin ; S. Oh ; B. Song ; H. Kim ; C. Koh ; Y. Ryu ; H. Lee ; Y. Baek
出版情報: Emerging liquid crystal technologies II : 21-22 and 24 January 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6487