1.

国際会議録
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1. Semi-transparent UV-Detecting ZnO-TFTs with Polymer Gate Dielectric
S. Im ; H. Bae ; J. Choi ; D. Hwang ; J. Kim
出版情報: Student Posters (General).  pp.29-39,  2006.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(23)
2.

国際会議録
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2. Characteristics of the HfO₂ Thin Films Grown by Remote Plasma Atomic Layer Deposition Method on the Plasma Oxidized Si Substrate
H. Kong. S. Kim ; J. Kim ; J. Choi ; H. Jeon ; C. Bae
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics III.  pp.459-464,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(5)
3.

国際会議録
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3. Studies of an Epoxy-Compatibilized PPS/PC Blend
S.Lom ; J. Choi ; J. Kim ; C.-R. Choe
出版情報: ANTEC '97 : plastics saving planet earth, Society of Plastics Engineers, April 27-May 2 : conference proceedings.  pp.3746-3750,  1997.  Brookfield Center, CT.  Society of Plastics Engineers, Inc. (SPE)
シリーズ名: Annual Technical Conference - ANTEC : Society of Plastics Engineers Annual Technical Papers
シリーズ巻号: 43
4.

国際会議録
国際会議録
4. Issues and challenges of double patterning lithography in DRAM
S. Kim ; S. Koo ; J. Choi ; Y. Hwang ; J. Park ; E. Kang ; C. Lim ; S. Moon ; J. Kim
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
5.

国際会議録
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5. 90nm node contact hole patterning through applying model based OPC in KrF lithography
Y.-D. Jeon ; S.-U. Lee ; J. Choi ; J. Kim ; J. Han
出版情報: Optical Microlithography XXI.  2  pp.69242W-1-69242W-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
6.

国際会議録
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6. Advanced mask technique to improve bit line CD uniformity of 90 nm node flash memory in low-K1 lithography
J. Kim ; J. Choi ; J. Han
出版情報: Photomask technology 2008.  1  pp.71220X-1-71220X-6,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122
7.

国際会議録
国際会議録
7. OPC modeling setup with considering flare effect
J. Kim ; J. Choi ; J. Han
出版情報: Optical Microlithography XXI.  3  pp.692442-1-692442-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
8.

国際会議録
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8. Resolution enhancement techniques in 65 nm node nested-hole patterning
H. Lee ; J. Choi ; J. Kim ; J.-W. Han ; K.-Y. Kim
出版情報: Optical Microlithography XXI.  3  pp.69244B-1-69244B-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
9.

国際会議録
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9. Patterning of biomolecules on a biocompatible nonchemically amplified resist
J. Kim ; R. Ganesan ; S. Y. Yoo ; J. Choi ; S. Y. Lee
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6519
10.

国際会議録
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10. DFM flow by using combination between design based metrology system and model based verification at sub-50nm memory device
C. Kim ; J. Kim ; J. Choi ; H. Yang ; D. Yim
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration : 28 February-2 March 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521