1.

国際会議録
国際会議録
1. EPL stencil mask defect inspection system using transmission electron beam
Yamamoto, J. ; Iwasaki, T. ; Yamabe, M. ; Anazawa, N. ; Maruyama, S. ; Tsuta, K.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  1  pp.531-537,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037
2.

国際会議録
国際会議録
2. Dynamic image placement accuracy of a stencil mask
Takenaka, H. ; Yamashita, H. ; Takahashi, K. ; Tomo, Y. ; Watanabe, M. ; Iwasaki, T. ; Yamamoto, J. ; Yamabe, M.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VI.  Part Two  pp.559-569,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4688
3.

国際会議録
国際会議録
3. FIB mask repair technology for electron projection lithography
Yamamoto, Y. ; Hasuda, M. ; Suzuki, H. ; Sato, M. ; Takaoka, O. ; Matsumura, H. ; Matsumoto, N. ; Iwasaki, K. ; Hagiwara, R. ; Suzuki, K. ; Ikku, Y. ; Aita, K. ; Kaito, T. ; Adachi, T. ; Yasaka, A. ; Yamamoto, J. ; Iwasaki, T. ; Yamabe, M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.348-356,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
4.

国際会議録
国際会議録
4. Defect printability of hole pattern on electron projection lithography
Yamamoto, J. ; Tomo, Y. ; Shimizu, S. ; Iwasaki, T. ; Yamabe, M.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  2  pp.972-982,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037