1.

国際会議録
国際会議録
1. Investigation of polarization effects on new mask materials
Itakura, Y. ; Kawasa, Y. ; Wakabayashi, O. ; Moriya, M. ; Nagai, S. ; Sumitani, A. ; Hagiwara, T. ; Ishimaru, T. ; Tsuji, S. ; Fujii, K. ; Wakamiya, W.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.587-598,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
国際会議録
2. Development and evaluation of an F2 laser for immersion interference lithography at 157 nm
Itakura, Y. ; Kawasa, Y. ; Wakabayashi, O. ; Moriya, M. ; Nagai, S. ; Sumitani, A. ; Hagiwara, T. ; Ishimaru, T. ; Tsuji, S. ; Fujii, K. ; Wakamiya, W.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.1269-1278,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
3.

国際会議録
国際会議録
3. 157-nm lithography for 65-nm node SRAM-gate
Suganaga, T. ; Irie, S. ; Miyoshi, S. ; Kim, J.-H. ; Watanabe, K. ; Kurose, E. ; Furukawa, T. ; Hagiwara, T. ; Ishimaru, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.261-269,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040