1.

国際会議録
国際会議録
1. 157-nm lithography for 65-nm node SRAM-gate
Suganaga, T. ; Irie, S. ; Miyoshi, S. ; Kim, J.-H. ; Watanabe, K. ; Kurose, E. ; Furukawa, T. ; Hagiwara, T. ; Ishimaru, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.261-269,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
国際会議録
2. 157-nm lithography with extremely high numerical aperture lens for 45-nm technology node
Suganaga, T. ; Lee, J.-W. ; Kurose, E. ; Ishimaru, T. ; Furukawa, T. ; Itani, T. ; Fujii, K. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.104-115,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377