1.

国際会議録
国際会議録
1. MEGAVOLT BORON AND ARSENIC IMPLANTATION INTO SILICON
Bryne, P. F. ; Cheung, N. W. ; Tam, S. ; Hu, C. ; Shih, Y. C. ; Washburn, J. ; Starthman, M.
出版情報: Ion implantation and ion beam processing of materials : symposium held November 1983 in Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.253-258,  1984.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 27
2.

国際会議録
国際会議録
2. PLANARIZED COPPER INTERCONNECTS BY SELECTIVE ELECTROLESS PLATING
Kiang, M.H. ; Tao, J. ; Namgoong, W. ; Hu, C. ; Lieberman, M. ; Cheung, N. W. ; Kang, H.-K. ; Wong, S. S.
出版情報: Materials reliability in microelectronics II : symposium held April 27-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.187-198,  1992.  Pittsburgh, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 265
3.

国際会議録
国際会議録
3. FORMATION OF SILICON ON INSULATOR (SOI) WITH SEPARATION BY PLASMA IMPLANTATION OF OXYGEN (SPIMOX)
Liu, J. B. ; Iyer, S. S. K. ; Min, J. ; Chu, P. ; Gronsky, R. ; Hu, C. ; Cheung, N. W.
出版情報: Beam-solid interactions for materials synthesis and characterization : symposium held November 28-December 2, 1994, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.117-,  1995.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 354