1.

国際会議録
国際会議録
1. Relaxed SiGe Layers With High Ge Content by Compliant Substrates
Yin, H. ; Peterson, R. L. ; Hobart, K. D. ; Shieh, S. R. ; Duffy, T. S. ; Sturm, J. C.
出版情報: Intergration of heterogeneous thin-film materials and devices : symposium held April 23-24, 2003, San Francisco, California, U.S.A..  pp.15-20,  2003.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 768
2.

国際会議録
国際会議録
2. Relaxed SiGe Layers With High Ge Content by Compliant Substrates
Yin, H. ; Peterson, R. L. ; Hobart, K. D. ; Shieh, S. R. ; Duffy, T. S. ; Sturm, J. C.
出版情報: CMOS front-end materials and process technology : symposium held April 22-24, 2003, San Francisco, California, U.S.A..  pp.147-152,  2003.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 765