1.

国際会議録
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1. IMPACT OF THE ELECTROCHEMICAL PROPERTIES OF SILICON WAFER SURFACES ON COPPER OUTPLATING FROM HF SOLUTIONS
Teerlinck, I. ; Schmidt, H.F. ; Rotondaro, A.L.P. ; Hurd, T.Q. ; Mouche, L. ; Mertens, P.W. ; Meuris, M. ; Heyns, M.M. ; Vanhaeren, D. ; Vandervorst, W.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.284-291,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
2.

国際会議録
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2. METAL INTERACTIONS WITH SILICA (SiO2) SURFACES: ADSORPTION AND ION EXCHANGE
Hurd, T.Q. ; Schmidt, H.F. ; Rotondaro, A.L.P. ; Mertens, P.W. ; Hall, L.H. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.277-283,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
3.

国際会議録
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3. *CLEANING OF METAL CONTAMINATION
Mertens, P.W. ; Hurd, T.Q. ; Graf, D. ; Meuris, M. ; Schmidt, H.F. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Contamination Control and Defect Reduction in Semiconductor Manufacturing III.  pp.241-252,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-9
4.

国際会議録
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4. Electrochemical Study of Copper Deposition on Silicon Surfaces in HF Solutions
Teerlinek, I. ; Gomes, W.P. ; Strubbe, K. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M.
出版情報: Electrochemical processing in ULSI fabrication and semiconductor/metal deposition II : proceedings of the international symposium.  pp.156-159,  1999.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-9
5.

国際会議録
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5. EVALUATION OF Si SURFACE CONDITIONS BY THE USE OF A SURFACE PHOTOVOLTAGE TECHNIQUE
Trauwaert, M.-A. ; Kenis, K. ; Caymax, M. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M. ; Vanhellemont, J. ; Graf, D. ; Wagner, P.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.455-462,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
6.

国際会議録
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6. GRAZINGEMISSION X-RAY FLUORESCENCE SPECTROMETRY: A NOVEL TOOL FOR SURFACE CONTAMINATION ANALYSIS AND THIN FILM METROLOGY
deBokx, P.K. ; Kidd, S.J. ; Wiener, G. ; Urbach, H.P. ; De Gendt, S. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M.
出版情報: Silicon materials science and technology : proceedings of the Eighth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.1511-1523,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-1(2)
7.

国際会議録
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7. Effect of Metal Contamination and Improved Cleaning Strategies
Mertens, P.W. ; Bearda, T. ; Lowewenstein, L.M. ; Martin, A.R. ; Hub, W. ; Kolbesen, B.O. ; Teerlink, I. ; Vos, R. ; Baeyens, M. ; Gendt, S.De ; Kenis, K. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Defects in Silicon.  pp.401-413,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-1
8.

国際会議録
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8. EVALUATION OF OZONATED WATER SPRAY FOR RESIST CLEANING APPLICATIONS
De Gendt, S. ; Lux, M. ; Claes, M. ; Van Hoeymissen, J. ; Conrad, T. ; Worth, W. ; Lagrange, S. ; Bergman, E. ; Jassal, A.S. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.391-398,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
9.

国際会議録
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9. EFFECTIVE POST-ETCH RESIDUE REMOVAL ON LOW-K FILMS USING SINGLE WAFER PROCESSING
Kesters, E. ; Ghekiere, J. ; Van Doorne, P. ; Vereecke, G. ; Mertens, P.W. ; Heyns, M.M.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.15-22,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
10.

国際会議録
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10. CRITICAL ASPECTS OF WAFER CLEANING AND GATE OXIDE INTEGRITY
Mertens, P.W. ; Meuris, M. ; Schmidt, H.F. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.M. ; Carr, P. ; Graeff, D. ; Schnegg, A. ; Kubota, M. ; Dillenbeck, K. ; de Blank, R.
出版情報: Proceedings of the Satellite Symposium to ESSDERC 93 Grenoble/France : crystalline defects and contamination: their impact and control in device manufacturing.  pp.87-102,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-15