1.

国際会議録
国際会議録
1. SILICIDE AS DOPANT SOURCE: ULTRASHALLOW N AND P JUNCTIONS IN SILICON
Herner, S.B. ; Gossmann, H.-J. ; Tung, R.T. ; Gila, B.P.
出版情報: Silicon materials science and technology : proceedings of the Eighth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.1224-1231,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-1(2)
2.

国際会議録
国際会議録
2. BORON-ENHANCED-DIFFUSION OF BORON FROM ULTRA- LOW-ENERGY BORON IMPLANTATION
Agarwal, A. ; Eaglesham, D.J. ; Gossmann, H.-J. ; Pelaz, L. ; Herner, S.B. ; Jacobson, D.C. ; Haynes, T.E. ; Erokhin, Yu E.
出版情報: Silicon materials science and technology : proceedings of the Eighth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.1232-1240,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-1(2)