1.

国際会議録
国際会議録
1. Pattern displacement induced by lens aberrations
Hendrickx, E. ; Vandenberghe, G. ; Ronse, K.G. ; Colina, A. ; van der Hoff, A. ; Dusa, M.V. ; Finders, J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1155-1162,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
2.

国際会議録
国際会議録
2. Experimental verification of a model-based decomposition method for double dipole lithography
Eurlings, M. ; Hsu, S.D. ; Hendrickx, E. ; op 't Root, W. ; Laidig, T.L. ; Chiou, T.-B. ; Chen, A. ; Chen, F. ; Vandenberghe, G. ; Finders, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1225-1236,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
3.

国際会議録
国際会議録
3. Double dipole lithography for 65-nm node and beyond: a technology readiness review
Hsu, S.D. ; Eurlings, M. ; Hendrickx, E. ; Van Den Broeke, D.J. ; Chiou, T.-B. ; Chen, J.F. ; Laidig, T.L. ; Shi, X. ; Finders, J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.481-498,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
4.

国際会議録
国際会議録
4. Application challenges with double patterning technology (DPT) beyond 45 nm [6349-75]
Park, J. ; Hsu, S. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, J. F. ; Dusa, M. ; Socha, R. ; Finders, J. ; Vleeming, B. ; van Oosten, A. ; Nikolsky, P. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Bekaert, J. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634922-634922,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349