1.

国際会議録
国際会議録
1. Optimization of nanomachining repair condition for ArF lithography
Amano, T. ; Nishiguchi, M. ; Hashimoto, H. ; Morikawa, Y. ; Hayashi, N. ; White, R. ; Bozak, R. ; Terrill, L.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.538-545,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
2.

国際会議録
国際会議録
2. Defect inspection and repair performance on CPL masks for 90- and 65-nm node line patterns
Morikawa, Y. ; Kojima, K. ; Hashimoto, H. ; Yoshida, Y. ; Sasaki, S. ; Mohri, H. ; Hayashi, N.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1339-1348,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567