1.

国際会議録
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1. Advanced module-based approach to effective CD prediction of sub-100nm patterns
Shin, J. ; Kim, I. ; Hwang, C. ; Park, D.-W. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Data analysis and modeling for process control : 26-27 February 2004, Santa Clara, California, USA.  pp.65-73,  2004.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5378
2.

国際会議録
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2. Layer-specific illumination optimization by Monte Carlo method
Kim, H.-C. ; Nam, D.-S. ; Hwang, C. ; Kang, Y.S. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.244-250,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
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3. Evaluation of ArF CLM in the sub-100-nm DRAM cell
Lee, J.-H. ; Chung, D.-H. ; Kim, H.-C. ; Nam, D.-S. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.251-260,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Flare-induced CD variation correction using transmittance controlled mask
Nam, D.-S. ; Yeo, G.-S. ; Park, J.R. ; Choi, S.-W. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.561-569,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
5.

国際会議録
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5. Process latitude extension in low k1 DRAM lithography using specific layer-oriented illumination design
Kang, Y.S. ; Nam, D.-S. ; Hwang, C. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1304-1309,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
6.

国際会議録
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6. Extension of Cr-less PSM to sub 90-nm-node DRAM and logic device
Lee, J.-H. ; Kim, H.-D. ; Chung, D.-H. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.727-735,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
7.

国際会議録
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7. Fluorocarbon-based single-layer resist for 157-nm lithography
Song, K.Y. ; Yoon, K.-S. ; Choi, S.-J. ; Woo, S.-G. ; Han, W.-S. ; Lee, J.-J. ; Lee, S.-K. ; Noh, C.-H. ; Honda, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part One  pp.504-511,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
8.

国際会議録
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8. Measurement of the flare and in-field linewidth variation due to the flare
Jeong, T.M. ; Choi, S.-W. ; Woo, S.-G. ; Han, W.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1465-1473,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
9.

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9. Way for LEEPL technology to succeed in memory device application
Kim, I.-S. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.1060-1067,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374
10.

国際会議録
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10. Successful application of angular scatterometry to process control in sub-100-nm DRAM device
Kim, J.- ; Kim, S.-J. ; Chin, S.-B. ; Oh, S.-H. ; Goo, D.-H. ; Lee, S.-J. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T. ; Raymond, C.J. ; Littau, M.E. ; Youn, B.J. ; Sohn, C.-J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.541-549,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375