1.

国際会議録
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1. Implementing chemically amplified resist to 10kV raster e-beam process in photomask manufacturing [5853-19]
Kim, S.-K. ; Kim, B.-G. ; Moon, S.-Y. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.425-431,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
2.

国際会議録
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2. Simulation of resist heating effect with e-beam lithography using distributed processing (DP) [5853-18]
Ki, W.-T. ; Ahn, B.-S. ; Park, J.-S. ; Choi, S.-W. ; Ma, S.-B. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.416-424,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
3.

国際会議録
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3. Monitoring system of CD error analysis for the 90-nm node mask manufacturing [5853-11]
Yu, S.-Y. ; Kim, S.-H. ; Cha, B.-C. ; Kim, Y.-H. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.83-89,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
4.

国際会議録
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4. The application of phase grating to CLM technology for the sub-65nm node optical lithography [5853-55]
Yoon, G.-S. ; Kim, S.-H. ; Park, J.-S. ; Choi, S.-Y. ; Jean, C.-U. ; Shin, I.-K. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.703-713,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
5.

国際会議録
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5. Evaluations of optical performance for micro-trench on quartz etch in ArF lithography [5853-67]
Ahn, W.-S. ; Kwon, H.-J. ; Moon, S.-Y. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.818-826,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
6.

国際会議録
国際会議録
6. Load balancing using DP management server for commercial MDP software [6349-146]
Kim, J.-W. ; Ki, W.-T. ; Jang, S.-H. ; Choi, J.-H. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63493X-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
7.

国際会議録
国際会議録
7. Flare-induced CD variation correction using transmittance controlled mask
Nam, D.-S. ; Yeo, G.-S. ; Park, J.R. ; Choi, S.-W. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.561-569,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
8.

国際会議録
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8. Automated CD SEM tilt-ready for primetime: a fast in-line methodology for differentiating lines vs. spaces
Choi, Y.-H. ; Sung, M.-K. ; Lee, S.-H. ; Lee, J.-H. ; Park, J.-H. ; Choi, I.-H. ; Moon, S.-Y. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XIX.  pp.351-362,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5752
9.

国際会議録
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9. Measurement of the flare and in-field linewidth variation due to the flare
Jeong, T.M. ; Choi, S.-W. ; Woo, S.-G. ; Han, W.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1465-1473,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
10.

国際会議録
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10. New approach for quartz dry etching using hardmask for sub-90-nm photomask technology
Huh, S. ; Yoon, K.-S. ; Jang, I.-Y. ; Hwang, J.-H. ; Shin, I.-K. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.19-27,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446