1.

国際会議録
国際会議録
1. Precise Analysis of Si/Graded-Si1-xGex/Si1-x/Gex Heterostructure Films Grown by Reduced Pressure Chemical Vapor Deposition Using Spectroscopic Ellipsometry
K. Shim ; J.J. Seo ; S. Choi ; H. Yang ; J. Kim
出版情報: SiGe and Ge, materials, processing, and devices.  pp.231-242,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(7)
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. T-50/A-50 Stores Separation Program
J. Kim ; C. Sohn ; I. Lee ; H. Yang
出版情報: AIAA meeting papers on disc.  2006.  Reston, Va.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA Atmospheric Flight Mechanics Conference
シリーズ巻号: 2006
3.

国際会議録
国際会議録
3. Advanced process control with design-based metrology
H. Yang ; J. Kim ; J. Hong ; D. Yim ; T. Hasebe ; M. Yamamoto
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
4.

国際会議録
国際会議録
4. Characteristics analysis of polarization module on optical proximity effect
C. Park ; J. Hong ; K. Yang ; T. Theeuwes ; F. Gautier ; Y. Min ; A. Chen ; H. Yang ; D. Yim ; J. Kim
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
5.

国際会議録
国際会議録
5. The APC (Advanced Process Control) procedure for process window and CDU improvement using DBMs
J. Kim ; T. Lee ; A. Jung ; G. Yoo ; H. Yang
出版情報: Lithography Asia 2008.  2  pp.71403G-1-71403G-11,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
6.

国際会議録
国際会議録
6. Wide applications of design based metrology with tool integration
H. Yang ; J. Kim ; A. Jung ; T. Lee ; D. Yim
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXII.  2  pp.692239-1-692239-7,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6922
7.

国際会議録
国際会議録
7. DFM flow by using combination between design based metrology system and model based verification at sub-50nm memory device
C. Kim ; J. Kim ; J. Choi ; H. Yang ; D. Yim
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration : 28 February-2 March 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521
8.

国際会議録
国際会議録
8. OPC and design verification for DFM using die-to-database inspection
J. Kim ; H. Yang ; J. Song ; D. Yim ; T. Hasebe ; M. Yamamoto
出版情報: Design for manufacturability through design-process integration : 28 February-2 March 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6521
9.

国際会議録
国際会議録
9. Spatial optical modulator (SOM): high-density diffractive laser projection display
S. Yun ; J. Song ; I. Yeo ; Y. Choi ; V. Yurlov ; S. An ; H. Park ; H. Yang ; Y. Lee ; K. Han ; I. Shyshkin ; A. Lapchuk ; K. Oh ; S. Ryu ; J. Jang ; C. Park ; C. Kim ; S. Kim ; E. Kim ; K. Woo ; J. Yang ; J. Kim ; S. Byun ; S. Lee ; O. Lim ; J. Cheong ; Y. Hwang ; G. Byun ; J. Kyoung ; S. Yoon ; J. Lee ; T. Lee ; S. Hong ; Y. Hong ; D. Park ; J. Kang ; W. Shin ; S. Oh ; B. Song ; H. Kim ; C. Koh ; Y. Ryu ; H. Lee ; Y. Baek
出版情報: Emerging liquid crystal technologies II : 21-22 and 24 January 2007, San Jose, California, USA.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6487