1.

国際会議録
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1. Ionization Chamber for Measurement of the High Dose Rates
R. Nishiura ; H. Nishizawa ; T. Hirano
出版情報: License renewal, life extention, decommissioning, and decontamination, basic nuclear engineering advances : presented at 8th International Conference on Nuclear Engineering, Baltimore, Maryland, April 2-6, 2000.  3  pp.427-432,  2000.  New York.  American Society of Mechanical Engineers
シリーズ名: ASME Symposia Volumes
シリーズ巻号: ICONE 8(3)
2.

国際会議録
国際会議録
2. AN ADVANCED DIELECTRIC ISOLATION STRUCTURE FOR SOI-CMOS/BICMOS VLSIS
H. Nishizawa ; S. Azuma ; T. Yoshitake ; H. Masuda ; M. Kawaji ; A. Anzai
出版情報: Proceedings of the Second International Symposium on Semiconductor Wafer Bonding--Science, Technology, and Applications.  pp.176-188,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-29
3.

国際会議録
国際会議録
3. Diffusion and drift of charge carriers in molecularly doped polymers
A. Hirao ; H. Nishizawa ; M. Sugiuchi
出版情報: Xerographic photoreceptors and photorefractive polymers : 10-11 July 1995 San Diego, California.  pp.30-39,  1995.  Bellingham, WA.  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2526
4.

国際会議録
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4. Carrier generation in fullerenes
A. Hirao ; H. Nishizawa ; H. Miyamoto ; M. Sugiuchi ; M. Hosoya
出版情報: Xerographic photoreceptors and photorefractive polymers : 10-11 July 1995 San Diego, California.  pp.71-81,  1995.  Bellingham, WA.  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2526