1.

国際会議録
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1. Effect of exposure intensity on the photochecmical reaction speed of the lithography for thick film resists [5878-57]
Guo, Y. ; Tang, X. ; Zhu, J. ; Du, J.
出版情報: Advanced characterization techniques for optics, semiconductors, and nanotechnologies II : 2-4 August, 2005, San Diego, California, USA.  pp.58781G-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5878
2.

国際会議録
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2. Refractive microlensarray made of silver-halide sensitized gelatin (SHSG) etched by enzyme with SLM-based lithography [6032-20]
Guo, X. ; Chen, M. ; Zhu, J. ; Ma, Y. ; Du, J. ; Guo, Y. ; Du, C.
出版情報: ICO20 : MEMS, MOEMS, and NEMS : 21-26 August, 2005, Changchun, China.  pp.60320K-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6032
3.

国際会議録
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3. A novel method for fabrication of continous-relief optical elements (5874-29)
Guo, X. ; Du, J. ; Chen, M. ; Ma, Y. ; Zhu, J. ; Peng, Q. ; Guo, Y. ; Du, C.
出版情報: Current developments in lens design and optical engineering VI : 2-4 August 2005, San Diego, California, USA.  pp.58740S-,  2005.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5874
4.

国際会議録
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4. LCD real-time mask technique for fabrication of arbitrarily shaped microstructure
Peng, Q. ; Guo, Y. ; Chen, B. ; Du, J. ; Xiang, J. ; Cui, Z.
出版情報: Design, test, integration, and packaging of MEMS/MOEMS 2002 : 6-8 May, 2002, Cannes, France.  pp.748-754,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4755
5.

国際会議録
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5. Near-field diffraction analysis of color-separating gratings under high-power laser condition
Gao, F. ; Tang, X. ; Wen, S. ; Du, J. ; Guo, Y. ; Yao, J.
出版情報: Holography, diffractive optics, and applications II : 8-11 November 2004, Beijing, China.  pp.568-575,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5636
6.

国際会議録
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6. Analysis and design of grating lens by using rigorous electromagnetic theory
Tang, X. ; Gao, F. ; Zhang, Y. ; Du, J. ; Guo, Y. ; Du, C.
出版情報: Holography, diffractive optics, and applications II : 8-11 November 2004, Beijing, China.  pp.519-527,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5636
7.

国際会議録
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7. Fractional Fourier domain filtering applied to improve image quality in photolithography
Zhang, Y. ; Du, J. ; Yang, J. ; Zeng, Y. ; Guo, Y. ; Cui, Z. ; Yao, J.
出版情報: Design, test, integration, and packaging of MEMS/MOEMS 2002 : 6-8 May, 2002, Cannes, France.  pp.755-759,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4755
8.

国際会議録
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8. Fabrication of beam sampling grating with electron- beam direct writing
Gao, F. ; Zeng, Y. ; Xie. S. ; Gao, F. ; Yao. J. ; Guo, Y. ; Du, J. ; Cui, Z.
出版情報: Practical Holography XVI and Holographic Materials VIII.  pp.413-419,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4659
9.

国際会議録
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9. Simple geometry to record fractional Fourier transform hologram with holographic lens
Gao, F. ; Zhang, Y. ; Zeng, Y. ; Yang, J. ; Xie, S. ; Gao, F. ; Huang, X. ; Yao, J. ; Du, J. ; Guo, Y.
出版情報: Practical Holography XVI and Holographic Materials VIII.  pp.175-181,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4659
10.

国際会議録
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10. Extraction of exposure modeling parameters of thick resist
Liu, C. ; Du, J. ; Liu, S. ; Duan, X. ; Luo, B. ; Zhu, J. ; Guo, Y. ; Du, C.
出版情報: MEMS/MOEMS Technologies and Applications II.  pp.333-343,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5641