1.

国際会議録
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1. Fluoropolymers for 157-nm single-layer resists developed using a new etching rate estimation model (KI-Model)
Kawaguchi, Y. ; Sasaki, T. ; Irisawa, J. ; Yokokoji, O. ; Irie, S. ; Otoguro, A. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.525-532,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
2.

国際会議録
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2. Evaluation systems of F2 laser lithography materials
Itakura, Y. ; Kawasa, Y. ; Egawa, K. ; Sumitani, A. ; Sasaki, H. ; Higasikawa, I. ; Irie, S. ; Fujii, K. ; Itani, T. ; Nakano, H. ; Hata, H.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1606-1615,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
3.

国際会議録
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3. Evaluation of outgassing from a fluorinated resist for 157-nm lithography
Irie, S. ; Fujii, K. ; Itakura, Y. ; Kawasa, Y. ; Egawa, K. ; Uchino, I. ; Sumitani, A. ; Itani, T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.226-237,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
4.

国際会議録
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4. 157-nm resist assessment by a full-field scanner
Otoguro, A. ; Irie, S. ; Ishimaru, T. ; Suganaga, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.245-253,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
5.

国際会議録
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5. A new monocyclic fluropolymer structure for 157-nm photoresists
Takebe, Y. ; Eda, M. ; Okada, S. ; Yokokoji, O. ; Irie, S. ; Otoguro, A. ; Fujii, K. ; Itani, T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.151-158,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
6.

国際会議録
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6. 157-nm single-layer resist based on novel monocyclic fluorinated polymer
Otoguro, A. ; Irie, S. ; Itani, T. ; Fujii, K. ; Takebe, Y. ; Kawaguchi, Y. ; Yokokoji, O.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.186-195,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376