1.

国際会議録
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1. Advances in resist pattern transfer process using 157-nm lithography
Furukawa, T. ; Hagiwara, T. ; Kawaguchi, E. ; Matsunaga, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.1064-1073,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
2.

国際会議録
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2. Airborne contamination control for 157-nm lithography: influence of ammonia contamination
Matsui, H. ; Kitano, J. ; Yoshihara, K. ; Kawaguchi, E. ; Furukawa, T. ; Matsunaga, K. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.1074-1081,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
3.

国際会議録
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3. 157-nm lithography with extremely high numerical aperture lens for 45-nm technology node
Suganaga, T. ; Lee, J.-W. ; Kurose, E. ; Ishimaru, T. ; Furukawa, T. ; Itani, T. ; Fujii, K. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.104-115,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
4.

国際会議録
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4. 157-nm chromeless phase lithography for 45-nm SRAM gate
Suganaga, T. ; Watanabe, K. ; Matsuura, S. ; Hagiwara, T. ; Furukawa, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1616-1626,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
5.

国際会議録
国際会議録
5. Characterization of TFE/norbornene-based fluoropolymer resist for 157-nm lithography
Hagiwara, T. ; Furukawa, T. ; Itani, T. ; Fujii, K. ; Ishikawa, T. ; Koh, M. ; Kodani, T. ; Moriya, T. ; Yamashita, T. ; Araki, T. ; Toriumi, M. ; Aoyama, H.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.159-168,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
6.

国際会議録
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6. The dissolution behavior of tetrafluoroethylene-based fluoropolymers for 157-nm resist materials
Ishikawa, T. ; Kodani, T. ; Koh, M. ; Moriya, T. ; Araki, T. ; Aoyama, H. ; Yamashita, T. ; Toriumi, M. ; Hagiwara, T. ; Furukawa, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.169-177,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376