1.

国際会議録
国際会議録
1. Electrical Measurements of Annealed Boron Implants for Shallow Junctions
Fiory, A.T. ; Baurdelle, K.K. ; Lefrancois, M.E. ; Camm, D.M ; Agarwal, A.
出版情報: Advances in rapid thermal processing : proceedings of the symposium.  pp.133-140,  1999.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-10
2.

国際会議録
国際会議録
2. Ultra-Shallow Junction Formation Using Ion Implantation and Rapid Thermal Annealing: Physical and Practical Limits
Agarwal, A. ; Gossmann, H.-J.L. ; Fiory, A.T. ; Venezia, V.C. ; Jacobson, D.C.
出版情報: Rapid thermal and other short-time processing technologies : proceedings of the international symposium.  pp.49-60,  2000.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-9