1.

国際会議録
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1. Characterization of ArF immersion process for production (Invited Paper)
Kohler, C. ; de Boeij, W. ; van Ingen-Schenau, K. ; van de Kerkhof, M. ; de Klerk, J. ; Kok, H. ; Swinkels, G. ; Finders, J. ; Mulkens, J. ; Fiolka, D. ; Heil, T.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.13-22,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. RAMAN STUDY OF MOMBE AND PLASMA-MOVPE GROWN III-V LAYERS ON Si (100)
Geurts, J. ; Finders, J. ; Munder, H. ; Kamp, M. ; Oehlers, M. ; Luth, H> ; Musolf, J. ; Leiber, J. ; Brauers, A. ; Weyers, M. ; Balk, P.
出版情報: Layered structures : heteroepitaxy, superlattices, strain, and metastability : symposium held November 27-December 1, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.499-504,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 160
3.

国際会議録
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3. lnP-Based HEMT Technology for MMIC Applications
Van Hove, M. ; Finders, J. ; van der Zanden, K. ; De Raedt, W. ; Van Rossum, M. ; Baeyens, Y. ; Schreurs, D. ; Nauwelaers, B. ; Zeng, A. ; Jackson, M.K.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Wide Bandgap Semiconductors and Devices and the Twenty-Third State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XXIII).  pp.395-407,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-21
4.

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4. Investigation of Passivation Effects in InP HEMT Layers
Hove, M. Van ; Finders, J. ; Zanden, K. van der ; Geurts, J. ; Rossum, M. Van
出版情報: Diagnostic techniques for semiconductor materials processing II : symposium held November 27-30, 1995, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.271-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 406
5.

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5. A single-exposure approach for petterning 45 nm flash/DRAM contacthole mask [6283-117]
Chen, T. ; Van Den Broeke, D. ; Tejnil, E. ; Hsu, S. ; Park, S. ; Berger, G. ; Coskun, T. ; De Vocht, J. ; Corcoran, N. ; Chen, F. J. ; van der Heijden, E. ; Finders, J. ; Engelen, A. ; Socha, R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62831A-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
6.

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6. Experimental evaluation of bull’s-eye illumination for csslst-free random contact printing at sub-65nm node [6154-39]
Finders, J. ; Engelen, A. ; Vandenberghe, G. ; Bekaert, J. ; Chen, T.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615412-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
7.

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7. An integrated lithography concept with application on 45-nm % pitch flash memory devices (Invited Paper) [6154-21]
Dusa, M. ; Engelen, A. ; Finders, J.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61540L-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
8.

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8. Optimizing and enhancing optical systems to meet the low k1 challenge
Flagello, D.G. ; Socha, R.J. ; Shi, X. ; Schoot, J.B. ; Baselmans, J. ; Kerkhof, M.A. ; Boeij, W. ; Engelen, A. ; Carpaij, R. ; Noordman, O. ; Moers, M.H.P. ; Mulder, M. ; Finders, J. ; Greevenbroek, H. ; Schriever, M. ; Maul, M. ; Haidner, H. ; Goeppert, M. ; Wegmann, U. ; Graeupner, P.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.139-150,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
9.

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9. Aberration's impact on subresolution contact hole process windows in ultrathin imaging resist
Reilly, M.T. ; Finders, J. ; Dusa, M.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.610-617,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
10.

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10. Dipole decomposition mask design for full-chip implementation at 100-nm technology node and beyond
Hsu, S.D. ; Corcoran, N.P. ; Eurlings, M. ; Knose, W.T. ; Laidig, T.L. ; Wampler, K.E. ; Roy, S. ; Shi, X. ; Hsu, C.M. ; Chen, J.F. ; Finders, J. ; Socha, R.J. ; Dusa, M.V.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.476-490,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
11.

国際会議録
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11. Pattern displacement induced by lens aberrations
Hendrickx, E. ; Vandenberghe, G. ; Ronse, K.G. ; Colina, A. ; van der Hoff, A. ; Dusa, M.V. ; Finders, J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1155-1162,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
12.

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12. ArF solutions for low-k1 back-end imaging
Wiaux, V. ; Montgomery, P.K. ; Vandenberghe, G. ; Monnoyer, P. ; Ronse, K.G. ; Conley, W. ; Litt, L.C. ; Lucas, K. ; Finders, J. ; Socha, R. ; Broeke, D.J.V.D.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.270-281,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
13.

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13. 65-nm full-chip implementation using double dipole lithography
Hsu, S.D. ; Chen, J.F. ; Cororan, N. ; Knose, W.T. ; Broeke, D.J.V.D. ; Laidig, T.L. ; Wampler, K.E. ; Shi, X. ; Hsu, C.M. ; Eurlings, M. ; Finders, J. ; Chiou, T.-B. ; Socha, R.J. ; Conley, W. ; Hsieh, Y.W. ; Tuan, S. ; Hsieh, F.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.215-231,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
14.

国際会議録
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14. Compensating measured intra-wafer ring oscillator stage delay with intra-wafer exposure dose corrections [6152-71]
Verhaegen, S. ; Nackaerts, A. ; Dusa, M. ; Carpaij, R. ; Vandenberghe, G. ; Finders, J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61521Y-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
15.

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15. Predictive modeling of advanced illumination pupils used as imaging enhancement for low-k1 applications
Heil, T. ; Graupner, P. ; Garreis, R. ; Egger, R. ; Brotsack, M. ; Finders, J. ; Hansen, S.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.344-356,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
16.

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16. Experimental verification of a model-based decomposition method for double dipole lithography
Eurlings, M. ; Hsu, S.D. ; Hendrickx, E. ; op 't Root, W. ; Laidig, T.L. ; Chiou, T.-B. ; Chen, A. ; Chen, F. ; Vandenberghe, G. ; Finders, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1225-1236,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
17.

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17. Double dipole lithography for 65-nm node and beyond: a technology readiness review
Hsu, S.D. ; Eurlings, M. ; Hendrickx, E. ; Van Den Broeke, D.J. ; Chiou, T.-B. ; Chen, J.F. ; Laidig, T.L. ; Shi, X. ; Finders, J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.481-498,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
18.

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18. Application challenges with double patterning technology (DPT) beyond 45 nm [6349-75]
Park, J. ; Hsu, S. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, J. F. ; Dusa, M. ; Socha, R. ; Finders, J. ; Vleeming, B. ; van Oosten, A. ; Nikolsky, P. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Bekaert, J. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634922-634922,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
19.

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19. CD versus pitch across the slit for multiple 248-nm step-and -scan exposure tools
Finders, J. ; de Kruif, R. ; Bruls, R. ; Bouchoms, I.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.227-239,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691