1.

国際会議録
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1. An integrated lithography concept with application on 45-nm % pitch flash memory devices (Invited Paper) [6154-21]
Dusa, M. ; Engelen, A. ; Finders, J.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61540L-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
2.

国際会議録
国際会議録
2. Aberration's impact on subresolution contact hole process windows in ultrathin imaging resist
Reilly, M.T. ; Finders, J. ; Dusa, M.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.610-617,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
国際会議録
3. Compensating measured intra-wafer ring oscillator stage delay with intra-wafer exposure dose corrections [6152-71]
Verhaegen, S. ; Nackaerts, A. ; Dusa, M. ; Carpaij, R. ; Vandenberghe, G. ; Finders, J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61521Y-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
4.

国際会議録
国際会議録
4. Application challenges with double patterning technology (DPT) beyond 45 nm [6349-75]
Park, J. ; Hsu, S. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, J. F. ; Dusa, M. ; Socha, R. ; Finders, J. ; Vleeming, B. ; van Oosten, A. ; Nikolsky, P. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Bekaert, J. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634922-634922,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349