1.

国際会議録
国際会議録
1. DEPENDENCE OF THE a-Si:H DEFECT DENSITY OF STATES ON THE MAGNETIC FIELD PROFILE OF AN ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE MICROWAVE PLASMA
Pool, F.S. ; Essick, J.M. ; Shing, Y.H. ; Mather, R.T.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1992.  pp.173-178,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 258
2.

国際会議録
国際会議録
2. CONDUCTION AND VALENCE BAND OFFSETS AT THE HYDROGENATED AMORPHOUS SILICON-CARBON/CRYSTALLINE SILICON INTERFACE VIA CAPACITANCE TECHNIQUES
Essick, J.M. ; Mather, R.T. ; Bennett, M.S. ; Newton, J.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1993 : Symposium held April 13-16, San Francisco, California, U.S.A..  pp.705-710,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 297