1.

国際会議録
国際会議録
1. The Effect of the Extra Ion on Residual Damage in MeV-Implanted Si
Libertino, S. ; Benton, J. L. ; Coffa, S. ; Jacobson, D. C. ; Eaglesham, D. J. ; Poate, J. M. ; Lavalle, M. ; Fuochi, P. G.
出版情報: Defects and diffusion in silicon processing : symposium held April 1-4, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.187-,  1997.  Pittsburg, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 469
2.

国際会議録
国際会議録
2. Characterization of Interstitial Defect Clusters in Ion-Implanted Si
Benton, J. L. ; Libertino, S. ; Coffa, S. ; Eaglesham, D. J.
出版情報: Defects and diffusion in silicon processing : symposium held April 1-4, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.193-,  1997.  Pittsburg, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 469