1.

国際会議録
国際会議録
1. Contact layer printing using alternating phase-shifting masks: mask making, patterning results, and production implementation
Pforr, R. ; Dettmann, W. ; Eisenhut, M. ; Hennig, M. ; Hofmann, D. ; Thiele, J. ; Thielscher, G.
出版情報: 20th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.178-187,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5504
2.

国際会議録
国際会議録
2. Full-level alternating PSM for sub-100nm DRAM gate patterning
Pforr, R. ; Ahrens, M. ; Dettmann, W. ; Hennig, M. ; Koehle, R. ; Ludwig, B. ; Morgana, N. ; Thiele, J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.232-243,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
国際会議録
3. Introduction of full-level alternating phase-shift mask technology into IC manufacturing
Thiele, J. ; Ahrens, M. ; Dettmann, W. ; Heissmeier, M. ; Hennig, M. ; Ludwig, B. ; Moukara, M. ; Pforr, R.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.89-97,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691